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Indice 1 Microtecnologia 1.1 Introduzione alla microtecnologia 1.2 Il vuoto 1.3 Il plasma 1.4 Tecniche litografiche 1.5 Film sottili 1.6 Processi successivi 1.7 Etching 1.8 Esempi 1.9 Tecniche diagnostiche 2 Nanotecnologia 2.1 Introduzione alla nanotecnologia 2.2 Approccio top-down 2.3 Approccio bottom-up

[modifica] Microtecnologia

[modifica] Introduzione alla microtecnologia

• Prima del transistor
• Il transistor e i dispositivi integrati
• La legge di Moore
• Microtecnologia: concetti di base
• L'ambiente: la camera pulita

[modifica] Il vuoto

• Le leggi del vuoto
• Pompe da vuoto
• Strumenti di misura per il vuoto

[modifica] Il plasma

• Lo schermo di Debye
• Frequenza di risonanza di un plasma

[modifica] Tecniche litografiche

• Litografia ottica
• Litografia elettronica
• Litografia a raggi X
• Litografia a fascio ionico

[modifica] Film sottili

• Evaporazione
• Sputtering
• Molecular Beam Epitaxy (MBE)
• Chemical Vapor Deposition (CVD)
• Physical Vapor Deposition (PVD)
• Deposizione di film dielettrici

[modifica] Processi successivi

• Ossidazione
• Impiantazione ionica
• Diffusione
• Planarizzazione

[modifica] Etching

• Reactive Ion Etching (RIE)
• Sistemi ad alta densità di plasma
• Ion milling
• Wet etch
• Attacco a secco

[modifica] Esempi

• Dispositivi MOS e CMOS
• Giunzioni Josephson
• MEMS
• Memorie magnetiche

[modifica] Tecniche diagnostiche

• Microscopia
• Diffrazione a raggi X
• Interazione con fasci di elettroni

1. SEM
2. TEM

• Scanning probe

1. STM

[modifica] Nanotecnologia

[modifica] Introduzione alla nanotecnologia

• Cenni storici
• I due approcci: top-down, bottom-up

[modifica] Approccio top-down

• Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation
• Scansione a sonda (scanning probe)
• Stampa (nanoprint)

[modifica] Approccio bottom-up

• Self-organizzazione

1. Film di Langmuir-Blodgett
2. Self-assembled monolayers (SAM)

• Strutture molecolari con carbonio

1. Fullerene C60
2. Nanotubi
3. Nanofili (nanowire)

1. AFM
2. SNOM