Contributi di Angelochimisso
Utente con 57 modifiche. Utenza creata il 25 feb 2009.
24 giu 2009
- 18:4318:43, 24 giu 2009 diff cron +1 767 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Figure di merito dei sensori di immagine
23 giu 2009
- 19:2119:21, 23 giu 2009 diff cron +1 026 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Come si realizza un pixel
- 18:0118:01, 23 giu 2009 diff cron +307 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Campionamento spaziale
11 giu 2009
- 19:2519:25, 11 giu 2009 diff cron +54 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine Nessun oggetto della modifica
- 19:2019:20, 11 giu 2009 diff cron +233 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine Nessun oggetto della modifica
4 giu 2009
- 13:1613:16, 4 giu 2009 diff cron +545 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche Nessun oggetto della modifica
3 giu 2009
- 17:2817:28, 3 giu 2009 diff cron +1 810 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia a raggi X Nessun oggetto della modifica
30 mag 2009
- 11:0811:08, 30 mag 2009 diff cron +1 123 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia a raggi X Nuova pagina: La litografia a raggi X è una tecnica litografiaca di prossima generazione, che è stata sviluppata per l'industria dei semiconduttori; è una tecnica ancora in via di perfezionamento…
- 10:4710:47, 30 mag 2009 diff cron +291 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche diagnostiche/Diffrazione a raggi X Nessun oggetto della modifica
28 mag 2009
- 18:3618:36, 28 mag 2009 diff cron +2 142 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia Nessun oggetto della modifica
28 apr 2009
- 20:2820:28, 28 apr 2009 diff cron +2 583 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/MEMS Nessun oggetto della modifica
- 18:5318:53, 28 apr 2009 diff cron +1 023 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/MEMS Nuova pagina: '''MEMS''' I MEMS (Micro Elettro Mechanical System), sono dispositivi microscopici progettati, assemblati ed utilizzati per interagire e produrre modificazioni in un particolare ambie…
- 15:2515:25, 28 apr 2009 diff cron +12 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Planarizzazione →CMP (Chemical Mechanical Polishing)
24 apr 2009
- 18:0518:05, 24 apr 2009 diff cron +1 029 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Reactive Ion Etching (RIE) Nessun oggetto della modifica
21 apr 2009
- 14:0314:03, 21 apr 2009 diff cron +20 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia elettronica Nessun oggetto della modifica
27 mar 2009
- 18:0518:05, 27 mar 2009 diff cron +17 m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il vuoto/Pompe da vuoto →Pompe da vuoto
- 16:2516:25, 27 mar 2009 diff cron −169 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Chemical Vapor Deposition (CVD) Nessun oggetto della modifica
- 01:1201:12, 27 mar 2009 diff cron +3 m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Wet etch Nessun oggetto della modifica
- 01:1101:11, 27 mar 2009 diff cron +34 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il vuoto Nessun oggetto della modifica
- 01:0501:05, 27 mar 2009 diff cron +1 036 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Wet etch Nessun oggetto della modifica
- 00:4600:46, 27 mar 2009 diff cron −1 175 m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching Nessun oggetto della modifica
- 00:3500:35, 27 mar 2009 diff cron −17 m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Diffusione Nessun oggetto della modifica
26 mar 2009
- 21:1221:12, 26 mar 2009 diff cron +67 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Diffusione Nessun oggetto della modifica
- 20:2020:20, 26 mar 2009 diff cron −5 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Impiantatore ionico
- 20:1920:19, 26 mar 2009 diff cron +19 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Impiantatore ionico
- 20:1820:18, 26 mar 2009 diff cron +897 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Impiantatore ionico
- 19:1519:15, 26 mar 2009 diff cron +28 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Impiantatore ionico
- 18:1718:17, 26 mar 2009 diff cron +1 138 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Impiantatore ionico
- 17:4317:43, 26 mar 2009 diff cron +1 297 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica Nessun oggetto della modifica
- 16:5916:59, 26 mar 2009 diff cron +1 331 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Diffusione Nuova pagina: {{Micro e nanotecnologia}} La diffusione termica rappresenta da sempre la più comune tecnica di drogaggio selettivo del silicio, prima dell’avvento definitivo dell’impiantazione …
- 16:3216:32, 26 mar 2009 diff cron +1 584 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica Nuova pagina: {{Micro e nanotecnologia}} L’impiantazione ionica consiste nell’introduzione di atomi carichi ad elevata energia in un substrato, solitamente un wafer silicio, al fine di variarne…
25 mar 2009
- 21:5521:55, 25 mar 2009 diff cron +2 474 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching Nessun oggetto della modifica
20 mar 2009
- 17:2517:25, 20 mar 2009 diff cron +6 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche Nessun oggetto della modifica
19 mar 2009
- 19:3019:30, 19 mar 2009 diff cron +361 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche Nessun oggetto della modifica
- 18:5218:52, 19 mar 2009 diff cron +6 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Molecular Beam Epitaxy (MBE) Nessun oggetto della modifica
- 18:5118:51, 19 mar 2009 diff cron +741 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Molecular Beam Epitaxy (MBE) Nessun oggetto della modifica
- 17:4717:47, 19 mar 2009 diff cron +386 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Risoluzione
- 17:3917:39, 19 mar 2009 diff cron −113 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Risoluzione
- 16:5616:56, 19 mar 2009 diff cron +2 276 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Esposizione e sviluppo
- 16:1716:17, 19 mar 2009 diff cron +15 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Applicazione del fotoresist
- 16:1416:14, 19 mar 2009 diff cron +2 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Preparazione
18 mar 2009
- 19:3519:35, 18 mar 2009 diff cron +635 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Deposizione di film dielettrici →Fornaci per deposizione di film a bassa pressione
- 19:1819:18, 18 mar 2009 diff cron +195 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Chemical Vapor Deposition (CVD) →Deposizione di CVD Tungsteno (W)
- 18:3918:39, 18 mar 2009 diff cron +2 032 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Chemical Vapor Deposition (CVD) Nessun oggetto della modifica
12 mar 2009
- 19:4519:45, 12 mar 2009 diff cron 0 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma →Processo di fotoionizzazione
- 19:4219:42, 12 mar 2009 diff cron 0 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma →Processo di fotoionizzazione
- 19:4119:41, 12 mar 2009 diff cron +9 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma →Processo di fotoionizzazione
- 19:3619:36, 12 mar 2009 diff cron +1 144 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma →Processo di fotoionizzazione
- 19:2219:22, 12 mar 2009 diff cron +163 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma →Interazioni possibili tra ione e atomo
- 18:5018:50, 12 mar 2009 diff cron +612 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma →Plasma come conduttore elettrico