Discussione:Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili
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Caratteristiche della deposizione PVD
[modifica sorgente]Vantaggi
- Velocità di deposizione
- Ottima qualità dei materiali deposti. Film con assenza di contaminati che invece sono presenti nei film CVD
- Uniformità della deposizione
- Costi contenuti
Svantaggi
- Impossibilità di depositare materiali polimerici con qualche eccezione
- Alto grado di sofisticazione dell'apparecchiatura e, perciò, alto costo iniziale
- Tecnologia che richiede una preparazione adeguata del personale
da una voce che intendo cancellare: Micro_e_nanotecnologia/Microtecnologia/Film_sottili/Physical_Vapor_Deposition_(PVD)
(corr | prec) 18:50, 19 mar 2009 Franztheboss87 (Discussione | contributi) (3 190 byte) (annulla) (corr | prec) 18:43, 19 mar 2009 Franztheboss87 (Discussione | contributi) (2 793 byte) (annulla)