Discussione:Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili

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Ho preso

Caratteristiche della deposizione PVD[modifica]

Vantaggi

  • Velocità di deposizione
  • Ottima qualità dei materiali deposti. Film con assenza di contaminati che invece sono presenti nei film CVD
  • Uniformità della deposizione
  • Costi contenuti

Svantaggi

  • Impossibilità di depositare materiali polimerici con qualche eccezione
  • Alto grado di sofisticazione dell'apparecchiatura e, perciò, alto costo iniziale
  • Tecnologia che richiede una preparazione adeguata del personale

da una voce che intendo cancellare: Micro_e_nanotecnologia/Microtecnologia/Film_sottili/Physical_Vapor_Deposition_(PVD)

(corr | prec) 18:50, 19 mar 2009‎ Franztheboss87 (Discussione | contributi)‎ (3 190 byte) (annulla) (corr | prec) 18:43, 19 mar 2009‎ Franztheboss87 (Discussione | contributi)‎ (2 793 byte) (annulla)