Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Ion milling
La tecnica dello ion milling si avvale delle seguenti caratteristiche :
- Scarica in plasma fra anodo e catodo
- Il campione da etchare è posto su un terzo elettrodo, disaccoppiato dal plasma
- Si usa gas Argon, a bassa pressione, per avere cammino libero medio lungo
- Un filamento produce elettroni, ionizza l'Ar, gli ioni vengono accelerati e sbattono sul campione (con energia dai 30 eV ai 10 keV)
- Utile per materiali refrattari, poco selettivo, altamente direzionale
