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Inizio
1
Microtecnologia
Attiva/disattiva la sottosezione Microtecnologia
1.1
Introduzione alla microtecnologia
1.2
Crescita dei cristalli
1.3
Il vuoto
1.4
Il plasma
1.5
Tecniche litografiche
1.6
Film sottili
1.7
Processi successivi
1.8
Etching
1.9
Esempi
1.10
Tecniche diagnostiche
1.11
Statistica per tecnologia
2
Nanotecnologia
Attiva/disattiva la sottosezione Nanotecnologia
2.1
Approccio top-down
2.2
Approccio bottom-up
Mostra/Nascondi l'indice
Micro e nanotecnologia
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Microtecnologia
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]
Introduzione alla microtecnologia
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]
Il transistor e i dispositivi integrati
La legge di Moore
Microtecnologia: concetti di base
L'ambiente: la camera pulita
Crescita dei cristalli
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Il vuoto
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]
Le leggi del vuoto
Pompe da vuoto
Strumenti di misura per il vuoto
Il plasma
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]
Proprietà generali
Fisica del plasma
Scarica in dc
Scarica a rf
Tecniche litografiche
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]
Litografia ottica
Litografia elettronica
Litografia a raggi X
Litografia a fascio ionico
Film sottili
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]
Chemical Vapor Deposition (CVD)
Sputtering
Evaporazione
Deposizione con cannone elettronico
Molecular Beam Epitaxy (MBE)
Film dielettrici
Film metallici
Processi successivi
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]
Ossidazione
Impiantazione ionica
Diffusione
Planarizzazione
Etching
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]
Wet etching
Dry etching
Ion milling
Esempi
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]
Dispositivi MOS e CMOS
Giunzioni Josephson
MEMS
Memorie magnetiche
Tecniche diagnostiche
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]
Microscopia Ottica
Diffrazione a raggi X
SEM
TEM
STM
AFM
SNOM
Statistica per tecnologia
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]
Nanotecnologia
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]
Approccio top-down
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]
Scanning probe lithography
Nanoprint
Approccio bottom-up
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]
Self-organizzazione
Strutture molecolari con carbonio
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Elettronica
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