Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Ion milling

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La tecnica dello ion milling si avvale delle seguenti caratteristiche :

  • Scarica in plasma fra anodo e catodo
  • Il campione da etchare è posto su un terzo elettrodo, disaccoppiato dal plasma
  • Si usa gas Argon, a bassa pressione, per avere cammino libero medio lungo
  • Un filamento produce elettroni, ionizza l'Ar, gli ioni vengono accelerati e sbattono sul campione (con energia dai 30 eV ai 10 keV)
  • Utile per materiali refrattari, poco selettivo, altamente direzionale

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