Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia a fascio ionico: differenze tra le versioni

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Micro e nanotecnologia

Copertina

Tutti i moduli · Sviluppo

Microtecnologia

Nanotecnologia

Introduzione alla nanotecnologia
- Cenni storici
- I due approcci: top-down, bottom-up
Approccio top-down
- Scansione a sonda (scanning probe)
- Stampa (nanoprint)
Approccio bottom-up
- Self-organizzazione
  1. Film di Langmuir-Blodgett
  2. Self-assembled monolayers (SAM)
- Strutture molecolari con carbonio
1. AFM
2. SNOM

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La litografia a fascio ionico è simile alla litografia elettronica, ma utilizza ioni invece che elettroni. Un grande vantaggio presentato dalla tecnica IPL (ions photolitography) rispetto alla litografia a fascio di elettroni, è dovuto al fatto che gli ioni presentano massa maggiore rispetto agli elettroni, questo consente di evitare fenomeni di scattering e quindi di ottenere una migliore risoluzione; gli ioni, inoltre, non subiscono diffrazione ed il resist risulta più sensibile agli ioni che agli elettroni (gli ioni presentano una maggiore energia rispetto agli elettroni), di conseguenza, la IPL è una tecnica più veloce rispetto alla litografia elettronica.

La IPL, tuttavia, presenta anche alcuni svantaggi:

le sorgenti di ioni non sono facilmente reperibili. Di solito si ricorre al gallio che viene fatto evaporare ed, in seguito, ionizzato
risulta difficile ottenere delle buone lenti magnetiche per gli ioni
le maschere da utilizzare per la IPL sono molto complesse e quindi di difficile realizzazione
è una tecnica molto lenta rispetto alla litografia ottica

I motivi sopra elencati portano a scartare la IPL per i processi di produzione su larga scala, questa tecnica però, trova la sua applicazione nella riparazione delle maschere per la litografia ottica o a raggi-X.

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+{{Micro e nanotecnologia}}
-La litografia a fascio ionico è simile alla litografia elettronica, ma utilizza ioni invece che elettroni. Un grande vantaggio presentato dalla tecnica IPL (ions photolitography) rispetto alla litografia a fascio di elettroni, è dovuto al fatto che gli ioni presentano massa maggiore rispetto agli elettroni, questo consente di evitare fenomeni di scattering e quindi di ottenere una migliore risoluzione; gli ioni, inoltre, non subiscono diffrazione ed il resist risulta più sensibile agli ioni che agli elettroni (gli ioni presentano una maggiore energia rispetto agli elettroni), di conseguenza, la IPL è una tecnica più veloce rispetto alla litografia elettronica.
+La '''litografia a fascio ionico''' è simile alla litografia elettronica, ma utilizza ioni invece che elettroni. Un grande vantaggio presentato dalla tecnica IPL (''ions photolitography'') rispetto alla litografia a fascio di elettroni, è dovuto al fatto che gli ioni presentano massa maggiore rispetto agli elettroni, questo consente di evitare fenomeni di scattering e quindi di ottenere una migliore risoluzione; gli ioni, inoltre, non subiscono diffrazione ed il ''resist'' risulta più sensibile agli ioni che agli elettroni (gli ioni presentano una maggiore energia rispetto agli elettroni), di conseguenza, la IPL è una tecnica più veloce rispetto alla litografia elettronica.
 La IPL, tuttavia, presenta anche alcuni svantaggi:
+* le sorgenti di ioni non sono facilmente reperibili. Di solito si ricorre al gallio che viene fatto evaporare ed, in seguito, ionizzato
+* risulta difficile ottenere delle buone lenti magnetiche per gli ioni
+* le maschere da utilizzare per la IPL sono molto complesse e quindi di difficile realizzazione
+* è una tecnica molto lenta rispetto alla litografia ottica
+I motivi sopra elencati portano a scartare la IPL per i processi di produzione su larga scala, questa tecnica però, trova la sua applicazione nella riparazione delle maschere per la litografia ottica o a raggi-X.
-- le sorgenti di ioni non sono facilmente reperibili. Di solito si ricorre al gallio che viene fatto evaporare ed, in seguito, ionizzato
+[[Categoria:Micro e nanotecnologia|Litografia a fascio ionico]]
-- risulta difficile ottenere delle buone lenti magnetiche per gli ioni
+{{Avanzamento|0%|3 giugno 2009}}
-- le maschere da utilizzare per la IPL sono molto complesse e quindi di difficile realizzazione
-- è una tecnica molto lenta rispetto alla litografia ottica
-I motivi sopra elencati portano a scartare la IPL per i processi di produzione su larga scala, questa tecnica però, trova la sua applicazione nella riparazione delle maschere per la litografia ottica o a raggi-X.